每款產(chan) 品都不希望產(chan) 品表麵出現凹凸不平，坑坑窪窪的麵部，所以對於(yu) 矽膠製品的表麵光潔度固然重要，矽膠製品主模拋光方式主要是降低模具鋼材表麵的粗糙度，想要真正保證矽膠製品的表麵光潔度還是需要從(cong) 模具工藝上麵著手，那麽(me) 對於(yu) 矽膠模具的表麵光潔度工藝都有哪些處理方式呢？

　　模具拋光可分為(wei) 多種工藝方式，在矽膠模具中運用不同的處理方法， 其中以下表麵處理方法為(wei) 常見工藝！

　　電解拋光：

　　電解拋光是靠選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分,使表麵光滑。與(yu) 化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。電化學拋 光過程分為(wei) 兩(liang) 步:

　　(1)宏觀整平溶解產(chan) 物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。

　　(2)微光平整陽極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。

　　機械拋光：

　　機械拋光是靠切削材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部而得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作 為(wei) 主,特殊零件如回轉體(ti) 表麵,可使用轉台等輔助工具,表麵質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨 料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中最高的。

　　超聲波拋光：

　　超聲波拋光是利用超聲波作為(wei) 動力，推動細小的磨粒以極高的速度衝(chong) 擊工件表麵，迫使磨料對被加工表麵進行加工，從(cong) 而降低其表 麵粗糙度的拋光方法。

　　流體(ti) 拋光：

　　流體(ti) 拋光是依靠高速流動的液體(ti) 及其攜帶的磨粒衝(chong) 刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體(ti) 噴射加工、流體(ti) 動力研磨等。流體(ti) 動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體(ti) 介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊 化合物並摻上磨料製成,磨料可采用碳化矽粉末。

　　磁研磨拋光：

　　磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控製,工作條件 好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

　　在矽膠製品生產(chan) 廠家而言模具的拋光光潔度取決(jue) 於(yu) 產(chan) 品的外觀質量程度，所以拋光工藝相同是重要的一個(ge) 工序，與(yu) 其他行業(ye) 拋光工藝不同，相對而言模具拋光也是提升矽橡膠製品的加工效率與(yu) 產(chan) 品的質量等等，所以您購買(mai) 的矽膠產(chan) 品表麵光潔度好不好正式取決(jue) 於(yu) 模具的拋光工藝做的好不好了！